미국 제재가 키운 중국 반도체 자립

 화웨이의 EUV 장비 개발

- 중국의 반도체 기술 발전: 중국은 첨단 반도체 생산에 필요한 극자외선(EUV) 노광장비의 자체 개발을 완료하였으며, 현재 마무리 단계에 접어들고 있다.

- ASML의 독점 시장: 네덜란드의 장비회사인 ASML이 독점하고 있는 EUV 시장에 균열이 발생하고 있으며, 이는 중국의 반도체 굴기를 더욱 견고하게 만드는 요소로 작용하고 있다.

- 미국 제재의 영향: 미국의 제재가 중국의 반도체 자립도를 높이는 데 기여하고 있다는 지적이 있다. 이는 중국이 EUV를 도입함으로써 최첨단 칩 생산이 가능해짐을 의미한다.

화웨이의 시범 생산 계획

- 시범 생산 일정: 화웨이는 2023년 3분기에 자체 개발한 EUV 장비를 활용한 시범 생산에 돌입할 예정이다.

- 연구개발 센터: 화웨이는 현재 둥관 캠퍼스에서 EUV 장비를 테스트하고 있으며, 2026년 본격 양산을 목표로 하고 있다.

- 자체 기술 강화: 화웨이는 자회사인 하이실리콘과 함께 자체 모바일 AP를 생산하는 등 반도체 기술을 강화하고 있다.

LDP 기술의 장점

- LDP 기술 설명: 화웨이의 EUV 장비는 레이저 유도 방전 플라즈마(LDP) 기술을 사용하고 있다.

- ASML의 기술과 비교: ASML은 고성능 레이저로 플라즈마를 만드는 레이저 생성 플라즈마(LPP) 방식을 채택하고 있다.

- 에너지 효율성: 외신에 따르면, 화웨이의 LDP 방식은 LPP보다 에너지 효율성이 높고 저렴하다고 알려져 있다.

- 해외 의존도 감소: 중국의 자체 기술로 운영할 수 있어 해외 의존도를 줄일 수 있으며, 기술 난도도 낮아진다.

중국의 반도체 기술 격차 해소

- EUV 장비의 중요성: EUV 장비는 7나노(나노미터) 이하의 최첨단 칩을 만들기 위해 필수적인 장비이다.

- 기술 격차 해소: ASML은 그동안 자사 장비가 없는 중국을 두고 글로벌 업체들에 비해 10~15년 뒤처져 있다고 평가했으나, 중국의 EUV 장비 개발로 기술 격차가 줄어들게 되었다.

- 전 세계 반도체 업계에 미치는 영향: 중국의 EUV 자체 개발은 ASML뿐만 아니라 메모리, 파운드리 등 전 세계 반도체 업계에도 영향을 미친다.

SMIC의 EUV 도입 가능성

- SMIC의 기존 장비: 중국 파운드리 업체인 **중신궈지(SMIC)**는 오래된 심자외선(DUV) 장비를 사용해왔다.

- 7나노 칩 양산: SMIC는 DUV로 7나노 칩 양산에 성공했으나, 낮은 수율 문제에 직면해 있었다.

- EUV 도입의 의미: SMIC가 EUV 장비를 도입하면 7나노 이하 반도체 생산에도 돌입할 수 있으며, 이는 시장 점유율에 큰 위협이 될 수 있다.

중국 메모리 기업의 기술 발전

- 메모리 기업의 경쟁력: **양쯔메모리(YMTC)**와 **창신메모리(CXMT)**는 각각 낸드플래시와 D램 분야에서 기술력으로 빠르게 추격하고 있다.

- 기술 성과: YMTC는 업계 최초로 낸드 294단 개발에 성공하였으며, CXMT는 첨단 D램인 DDR5, LPDDR5 양산에 돌입하였다.

- 첨단 공정 개발: 이들 기업은 첨단 공정으로 꼽히는 제품을 개발하고 있으며, 이는 중국 반도체 생태계의 발전을 의미한다.

미국 제재의 부작용

- 미국 제재의 영향: 중국의 반도체 생태계가 견고해지는 상황에서 미국의 제재가 이를 부추겼다는 우려의 목소리가 커지고 있다.

- 전문가 의견: 신현철 광운대 반도체시스템공학부 교수는 “미국 대중국 제재 조치가 오히려 중국을 키우는 부작용을 낳았다는 우려의 목소리가 사실로 드러나고 있다”고 설명하였다.

- 중국 반도체 산업의 성장: 이러한 상황은 중국 반도체 산업의 자립과 성장을 가속화하는 요인으로 작용하고 있다.