Today and Tommorrow

 ASML의 중국 시장 투자 확대 - ASML은 세계 최대 반도체 노광장비 기업으로, 네덜란드에 본사를 두고 있다. - 트럼프 미국 행정부의 압박에도 불구하고, ASML은 중국 시장에 대한 투자를 확대하고 있는 상황이다. - 미국 정부는 중국 제재 강화를 요구하고 있으나, ASML은 이러한 압박과는 상반된 행보를 보이고 있다. - ASML의 이러한 결정은 반도체 장비 시장에서의 절대적인 지위와 관련이 있다. 미국 정부의 제재와 ASML - 미국 정부는 트럼프 정부 출범 이후 중국 제재를 강화하고 있다. - ASML은 반도체 장비 시장에서 **'슈퍼을'**로서의 위치를 유지하고 있으며, 이는 주목할 만한 점이다. - 업계에서는 ASML의 행보를 미국과 유럽 간의 균열과 매출 영향 등을 복합적으로 고려한 결과로 보고 있다. - **'절대 기술'**이 존재할 경우, 미국의 관세 압박에 대한 두려움이 줄어드는 것으로 해석된다. ASML의 연례보고서 발표 - ASML은 최근 연례보고서를 통해 중국 베이징에 있는 재활용 제조센터의 규모를 확장할 계획을 밝혔다. - 이 계획은 유지·보수 기능을 강화하기 위한 것으로, ASML의 전략적 결정으로 볼 수 있다. - ASML은 전 세계 노광장비 시장을 독점하고 있으며, 이 회사의 장비 없이는 초미세 공정 반도체 제품을 생산할 수 없다. - 이러한 결정은 미 정부의 중국향 반도체 장비 수출 통제 압박 직후에 이루어졌다는 점에서 더욱 주목된다. 미국의 장비 수출 통제 - 미국 정부는 과거에도 여러 차례 제재를 통해 ASML의 최신 장비가 중국에 유입되는 것을 차단한 바 있다. - ASML의 투자 결정은 미 정부의 압박에도 불구하고 이루어진 것으로, 이는 중국 시장에 대한 의지를 나타낸다. - 블룸버그통신은 트럼프 행정부 인사들이 네덜란드 당국자들과 만나 ASML의 중국 내 장비 유지보수 제한에 대해 논의했다고 보도하였다. - 미국은 ASML에 대해 어플라이드머티어리얼즈와 램리서치와 같은 자국 업체와 동일...

 화웨이의 EUV 장비 개발 - 중국의 반도체 기술 발전: 중국은 첨단 반도체 생산에 필요한 극자외선(EUV) 노광장비의 자체 개발을 완료하였으며, 현재 마무리 단계에 접어들고 있다. - ASML의 독점 시장: 네덜란드의 장비회사인 ASML이 독점하고 있는 EUV 시장에 균열이 발생하고 있으며, 이는 중국의 반도체 굴기를 더욱 견고하게 만드는 요소로 작용하고 있다. - 미국 제재의 영향: 미국의 제재가 중국의 반도체 자립도를 높이는 데 기여하고 있다는 지적이 있다. 이는 중국이 EUV를 도입함으로써 최첨단 칩 생산이 가능해짐을 의미한다. 화웨이의 시범 생산 계획 - 시범 생산 일정: 화웨이는 2023년 3분기에 자체 개발한 EUV 장비를 활용한 시범 생산에 돌입할 예정이다. - 연구개발 센터: 화웨이는 현재 둥관 캠퍼스에서 EUV 장비를 테스트하고 있으며, 2026년 본격 양산을 목표로 하고 있다. - 자체 기술 강화: 화웨이는 자회사인 하이실리콘과 함께 자체 모바일 AP를 생산하는 등 반도체 기술을 강화하고 있다. LDP 기술의 장점 - LDP 기술 설명: 화웨이의 EUV 장비는 레이저 유도 방전 플라즈마(LDP) 기술을 사용하고 있다. - ASML의 기술과 비교: ASML은 고성능 레이저로 플라즈마를 만드는 레이저 생성 플라즈마(LPP) 방식을 채택하고 있다. - 에너지 효율성: 외신에 따르면, 화웨이의 LDP 방식은 LPP보다 에너지 효율성이 높고 저렴하다고 알려져 있다. - 해외 의존도 감소: 중국의 자체 기술로 운영할 수 있어 해외 의존도를 줄일 수 있으며, 기술 난도도 낮아진다. 중국의 반도체 기술 격차 해소 - EUV 장비의 중요성: EUV 장비는 7나노(나노미터) 이하의 최첨단 칩을 만들기 위해 필수적인 장비이다. - 기술 격차 해소: ASML은 그동안 자사 장비가 없는 중국을 두고 글로벌 업체들에 비해 10~15년 뒤처져 있다고 평가했으나, 중국의 EUV 장비 개발로 기술 격차가 줄어들게 되었다. - 전 세계 반도체 업계에 미치는 영향:...

 중국 반도체 기술 혁신 - 연구팀의 성과: 중국 하얼빈공업대학 항공우주학원 자오융펑 교수의 연구팀이 네덜란드 ASML이 독점하고 있던 반도체 칩 제조의 핵심 설비인 13.5나노 극자외선(EUV) 광원 연구개발에 성공하였다.이 성과는 홍콩사우스차이나모닝포스트(SCMP)에 의의해25년 1월 19일 보도되었다. - 기술의 중요성: 이 연구는 중국의 반도체 산업에 중대한 혁신을 가져올 것으로 기대된다. 기술 혁신의 중요성 - 기술 개발: 자오 교수 연구팀이 개발한 방전 플라즈마 EUV 광원 기술은 2024년 헤이룽장성 대학 및 연구기관 과학기술 혁신성과 전환 대회에서 1등상을 수상하였다. - 기술 혁신의 의미: 이 기술은 중국의 반도체 산업에서 국산화를 위한 중요한 발판이 될 것이다. 노광장비의 역할 - 노광장비의 기능: 노광장비는 극자외선 파장의 광원을 사용하여 반도체 웨이퍼에 미세한 회로 패턴을 그려 넣는 설비이다. - 미세화의 필요성: 10 나노 이하 반도체 미세화에 필수적인 요소로, 반도체 산업의 발전에 중요한 역할을 한다. 중국의 반도체 산업 전망 - 수출금지 조치의 영향: 중국은 미국의 강력한 대중 반도체 수출금지 조치로 인해 ASML의 노광장비를 확보할 수 없었다. - 연구개발 성공의 의미: 이번 연구개발의 성공은 중국 반도체 산업에 새로운 희망을 제공하며, 노광장비의 국산화에 기여할 수 있게 되었다. 기술 비교: LPP vs LDP - 기술 방식: 자오 교수팀은 전기에너지를 플라즈마로 직접 전환하여 13.5 나노 극자외선을 생성하였다. - LPP와 LDP의 차이:   1. LPP (Laser Produced Plasma): ASML이 채택한 방식으로, 고성능 레이저와 FPGA 칩을 사용하여 플라즈마를 생성한다.   2. LDP (Laser-induced Discharge Plasma): 자오 교수팀이 선택한 방식으로, 에너지 전환 효율이 높고 전기 소비가 적어 원가 절감과 기술 난이도가 낮다는 장점이 있다. 자체 기술의 중요성...